◎商品名稱: |
NIKON工具顯微鏡 |
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◎商品型號: |
光學MM-400/800 |
◎特色說明: |
規範說明 |
1.目視工具顯微鏡 |
2.適用產業︰3C、光電、通訊、精密機械、半導體、模具、五金、精密塑膠、元件、精密加工、ect! |
3.型式︰單座低倍鏡頭 ( X / Y測定) &炮塔旋轉式高倍型 (Z測定) |
4.倍 數︰ |
低倍型 : 10 / 30 (S) / 50 / 100 / 200 / 500 / 1000倍 |
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高倍型︰50 / 100 / 200 / 500 / 1000倍 |
5.測定工作平台 : 50 X50 / 100 X 500 / 100 X 100 / 150 X 500/200 X 150 mm |
6.最小顯示值︰0.1 um |
7.擴充性︰中文計測軟體 (WIN XP)、資料運算處理器數位相機、CTV、影像擷取設備、影像列印機 |
8.採購建議事項︰ |
a)此次評估適用性 |
詳細規格-->NIKON
MM-800/400簡介 |
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b)此次評估測定之圖面公差 |
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c)所需倍數 |
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d)所需測定尺寸範圍 |
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e)是否需影像輸出或擷取 |
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f)報表列印或統計製程分析、(SPC)管制 |
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◎商品配件: |
計算QC200系列(二/三軸)資料運算處理器 、E1(A) Series、90度光軸觀察稜鏡 |
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◎備註說明: |
儀器專用--攝影機(C.C.D) |
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數位相機與光學儀器系統組合 |
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計算IMAGE-M |
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光源系統總覽 |
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影像擷取設備(USB) |
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專用監視器 |
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光學保養器材 |
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光學保養器材-2 |
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◎商品名稱: |
NIKON V-12B 系列投影機 |
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◎商品型號: |
NIKON V-12B |
◎特色說明: |
*** 規 範 表 *** |
機 型 : |
V-12BDC V-12BD V-12BSC V-12BS |
投 影 幕 : |
300 mm ; 中心線 數字360° 固定螢幕 |
X / Y顯示器 : |
內藏(1.0/0.5um ) - 內藏(1.0/0.5um) - |
投影鏡頭 : |
5倍,10倍 ,20倍,25倍,50倍, 100倍,200倍,500倍 |
鏡座設計 : |
三孔砲塔式;螺絲固定 |
影 像 : |
正 像 |
倍率精度 : |
±0.1% (輪廓光源) ; ±0.15%(表面光源 ) |
工 作 台 : |
10x6 , 8x6 , 6x4 , 4x4 ,O3L, 2x2 |
光源系統 : |
24V/150W 鹵素燈泡 |
最大工件高度: |
70 mm(10x6) ;100 mm(Else) |
最大荷重 : |
10x6(20Kg) ; 8x6(15Kg) ; 6x4(10Kg) ; 4 x4(6Kg); O3L and 2x 2 (5Kg) |
電 源 : |
AC 100/120V or 220V |
詳細規格-->NIKON V-12B簡介 |
儀器重量 : |
80 Kg |
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選購配件 : |
軟體 / 資料運算處理器 / 旋轉工作台 |
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* 本體一體成型: |
光徑.焦距皆不易變化避免日後困擾 |
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* 數字顯示器 : |
X/Y及角度置於影幕下方 |
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* 輸 出 : |
RS-232C 標準介面輸出 |
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* 單 位 : |
公/英 制切換 |
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* 測 定 台 : |
快速移動機構設計表面氧化鉻披覆 |
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* 燈 源 : |
卡匣式設計 |
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◎商品配件: |
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◎備註說明: |
光學保養器材 / 光學保養器材-2 |
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◎商品名稱: |
Nikon 高倍顯微鏡 |
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◎商品型號: |
LV-N 高倍顯微鏡 |
◎特色說明: |
**規範表** |
機 型 |
LV100ND LV150N EPIPHOT 200 EPIPHOT 300 |
光 源 系 統 |
EPI / DIA EPI EPI EPI |
工 件 高 度 |
29 mm 47 mm -- -- |
焦 距 調 整 |
30 mm 40 mm 4 mm 4 mm |
粗 調 |
12.7mm/轉 4mm/轉 |
微 調 |
0.1mm /轉;1um微動 0.1mm /轉 ;1 um 微動 |
視 鏡 管 |
二/三眼視鏡管 二眼視鏡管 |
接 目 鏡 |
10x,12.5x,15 x |
光 源 系 統 |
12V/50W鹵素光源 |
鼻 輪 |
Quintuple/BD Quintuple/EpiQuintuple (依需求) |
接 物 鏡 |
CFI LU/LPlan 系列 |
工 作 平 台 |
3x2/6x4/6x6(LV150)平台 -- -- |
尺 規 |
-- -- -- 線性,沃斯田鐵(1~8) |
選 配 |
攝影機/數位相機/影像計測軟體 |
詳細規格-->NIKON LV金相簡介 |
◎商品配件: |
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◎備註說明: |
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◎商品名稱: |
NIKON L200N/L300N 12吋晶圓(Wafer)檢查高倍顯微鏡 |
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◎商品型號: |
8 / 12吋晶圓(Wafer)檢查儀(FS300/D) |
◎特色說明: |
規範說明︰ |
1.300mm Wafer全範圍觀察 |
2.高剛性、高耐震性一體成型高倍時可穩定觀察、不震動 |
3.人體工學設計長時間觀察減少作業者疲勞,提升效率 |
4.長焦距、廣視野設計、避免操作時破片危險及困擾 |
5.觀察光學鏡頭︰具明視野,明/暗視野觀察選擇 |
6.光源系統 ︰12V/100W(EPI)或12V/100W(DIA) |
7.焦距調整 ︰全行程(32mm);粗調(3.8mm/轉);微調(0.1mm/轉) |
8.電動接物鏡鼻輪設計 |
9.平台移動 ︰356x306 mm;粗/微調移動 |
10.視鏡管角度︰20度 |
11.瞳孔距離 ︰51~76 mm |
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12.接 目 鏡︰10X/30(超廣角)或10X/24(廣角)選擇 |
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13.接 物 鏡︰明視野:1/2/5/10/20/50/100倍 |
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明/暗視野:2/5/10/20/50/100倍 |
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14.儀器外觀 ︰712x803x568.5 mm |
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15.儀器重量 ︰50Kg |
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◎商品配件: |
儀器專用--攝影機(C.C.D)、數位相機與光學儀器系統組合、計算IMAGE-M |
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◎備註說明: |
光學保養器材 |
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光學保養器材-2 |
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影像擷取設備(USB) |
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◎商品名稱: |
NIKON SMZ-745無段變焦立體顯微鏡 |
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◎商品型號: |
無段變焦立體顯微鏡 |
◎特色說明: |
系統特徵︰ |
影像清晰、高分辨率、視野寬廣、超長工作距離 |
防靜電功能︰ |
放電時間<0.2秒 |
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具防塵、防油、防水、抗霉、防靜電等功能;適用於半導體、晶片封裝、被動元件、光電產業特殊元件產業之檢測需求 |
儀器規範︰ |
1.系統標準倍數︰6.7 ~ 50 倍(接目鏡:10倍) |
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2.可擴充倍數 ︰3.35 ~ 300 倍 |
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3.接目鏡選購 ︰15/20/30 倍 |
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4.輔助鏡選購 ︰0.5/2倍 |
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5.變焦範圍 ︰7.5:1(0.8~5X) |
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6.瞳孔距離調整︰52 ~ 75 mm |
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7.焦 距︰115 mm |
◎商品配件: |
數位相機與光學儀器系統組合、光源系統總覽、90度光軸觀察稜鏡 |
NIKON SMZ-745 |
◎備註說明: |
工作移動平台 |
詳細規格-->NIKON SMZ立顯簡介 |
特殊--X/Y機構式移動平台設計 |
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光學保養器材 |
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光學保養器材-2 |
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◎商品名稱: |
NIKON MF-501+MFC-101 高度計/膜厚計 |
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◎商品型號: |
數字千分儀 |
◎特色說明: |
測量範圍 |
0-50mm |
最小讀取值 |
0.1μm ;can be switched to 0.5μm or 1μm |
精度(20C) |
1 μm |
移動速度 |
500 mm/sec. or less |
量測壓力 |
Down direction 115 to 165 gf (variable to sbout 30 gf)lateral
direction 65 to 125 gf |
傳輸 |
RS-232C and dedicated print output |
使用溫度 |
0 to +40℃ |
重量 |
Approx. 460g |
◎商品配件: |
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◎備註說明: |
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詳細規格-->NIKON
高度計簡介 |